三菱电机

三菱电机创立于1921年,是全球知名的综合性企业。截止2023年3月31日的财年,集团营收50036亿日元(约合美元373亿)。作为一家技术主导型企业,三菱电机拥有多项专利技术,并凭借强大的技术实力和良好的企业信誉在全球的电力设备、通信设备、工业自动化、电子元器件、家电等市场占据重要地位。尤其在电子元器件市场,三菱电机从事开发和生产半导体已有60余年。其半导体产品更是在变频家电、轨道牵引、工业与新能源、电动汽车、模拟/数字通讯以及有线/无线通讯等领域得到了广泛的应用。

第15讲:高压SiC模块封装技术

三菱电机高压SiC模块支持175℃工作结温,其封装技术相对传统IGBT模块封装技术做了很大改进,本文带你详细了解内部的封装技术。

第14讲:工业用NX封装全SiC功率模块

三菱电机开发了工业应用的NX封装全SiC功率模块,采用低损耗SiC芯片和优化的内部结构,与现有的Si-IGBT模块相比,显著降低了功率损耗

三菱电机开始提供工业用第8代IGBT模块样品

该模块采用第8代绝缘栅双极型晶体管(IGBT)芯片,有助于降低太阳能发电系统、储能电池等电源系统中逆变器的功率损耗,提高逆变器的输出功率。

第13讲:超小型全SiC DIPIPM

在Si-IGBT的DIPIPM基础上,三菱电机开发了超小型全SiC DIPIPM,保持相同的封装及管脚配置。本文带你一览超小型全SiC DIPIPM的优势。

三菱电机开始提供S1系列HVIGBT模块样品

新模块实现了出色的可靠性、低功率损耗和低热阻,有望提高大型工业设备中逆变器的可靠性和效率。

第12讲:三菱电机高压SiC芯片技术

三菱电机开发了高耐压SiC MOSFET,并将其产品化,率先将其应用于驱动铁路车辆的变流器中,。本篇带你了解三菱电机高压SiC芯片技术。

第11讲:三菱电机工业SiC芯片技术

本文主要介绍三菱电机1200V级SiC MOSFET的技术开发概要。

第10讲:SiC的加工工艺(2)栅极绝缘层

栅极氧化层可靠性是SiC器件应用的一个关注点。本节介绍SiC栅极绝缘层加工工艺,重点介绍其与Si的不同之处。

三菱电机开始提供用于xEV的SiC-MOSFET裸片样品

三菱电机的新型功率半导体芯片是一种特有的沟槽栅SiC-MOSFET,与传统的平面栅SiC-MOSFET相比,其功率损耗降低了约50%

第9讲:SiC的加工工艺(1)离子注入

离子注入是SiC器件制造的重要工艺之一。通过离子注入,可以实现对n型区域和p型区域导电性控制。本文简要介绍离子注入工艺及其注意事项。