硅基氮化镓在射频市场的应用日益广泛
judy -- 周二, 09/19/2023 - 15:21
氮化镓技术将继续在国防和电信市场提供高性能和高效率。射频应用目前主要是碳化硅基氮化镓(GaN-on-SiC)器件
氮化镓技术将继续在国防和电信市场提供高性能和高效率。射频应用目前主要是碳化硅基氮化镓(GaN-on-SiC)器件
在工业、汽车和可再生能源应用中,基于宽禁带 (WBG) 技术的组件,比如 SiC,对提高能效至关重要
要想让设备不断实现更好的节能指标,用功率器件取代传统开关是必要的一步。可以说,功率器件创新的方向就是为了打造更节能的社会
Qorvo的SiC FET技术用于采用TO-Leadless(TOLL)封装的750V器件开发,并扩大了其领先优势。那么,如此小巧的TOLL封装能带来什么?
与东芝目前采用3引脚TO-247封装的产品TW045N120C相比,新型TW045Z120C的开通损耗降低了约40%,关断损耗降低了约34%
新模块采用东芝第3代SiC MOSFET芯片,其漏极电流(DC)额定值为250A,适用于光伏发电系统和储能系统等使用DC 1500V的应用
SiC FET在共源共栅结构中结合硅基MOSFET和SiC JFET,带来最新宽带隙半导体技术的性能优势,以及成熟硅基功率器件的易用性
碳化硅 (SiC)是一种新兴的新型宽禁带 (WBG) 材料,特别适用于具有挑战性的应用。然而,大家对它的诸多不了解限制了设计人员对它的充分利用
在未来十年及以后,规模经济将继续降低碳化硅器件的成本,主要驱动因素是器件制造向8英寸碳化硅晶圆的过渡
DMWSH120H90SM4Q 可在最高 1200VDS 范围内安全可靠地运作,其闸极-源极 (Gate-Source) 电压 (Vgs) 为 +15/-4V,且在 15Vgs 时具有 75mΩ (典型值) 的 RDS(ON)规格