DRAM

三星开发出其首款24Gb GDDR7 DRAM,助力下一代人工智能计算

24Gb GDDR7提供了业界出众的容量和超过40Gbps的速度,极大提升了图形DRAM的性能,为未来应用注入强劲动力

涨势延续,预估2024年第一季DRAM合约价季涨幅13~18%

TrendForce集邦咨询表示,2024年第一季DRAM合约价季涨幅约13~18%,其中Mobile DRAM持续领涨

佰维发布CXL 2.0 DRAM,赋能高性能计算

佰维成功研发并发布了支持CXL 2.0规范的CXL DRAM内存扩展模块。CXL 2.0 DRAM采用EDSFF(E3.S)外形规格,内存容量高达96GB

美光率先为业界伙伴提供基于 32Gb 单裸片 DRAM 的高速率、低延迟 128GB 大容量 RDIMM 内存

美光推出基于 32Gb 单裸片的 128GB DDR5 RDIMM 内存,具有高达 8,000 MT/s 速率的一流性能,可支持当前及未来的数据中心工作负载。

以工艺窗口建模探索路径:使用虚拟制造评估先进DRAM电容器图形化的工艺窗口

本文将举例说明如何借助虚拟制造评估 DRAM 电容器图形化工艺的工艺窗口

SK海力士全面推进全球最高速率LPDDR5T DRAM商用化

LPDDR5T的16 GB容量套装产品可在国际半导体标准化组织(JEDEC)规定的最低电压1.01至1. 12V(伏特)标准范围下运行

三星发布其容量最大的12纳米级32Gb DDR5 DRAM产品

在相同封装尺寸下,容量是16Gb内存模组的两倍,功耗降低10%,且无需硅通孔(TSV)工艺即可生产128GB内存模组

为什么消费类DRAM无法满足工业应用需求?

本文将探讨消费类DRAM和工业DRAM之间的差异,并揭示不正确使用DRAM的风险

SK海力士开发出全球最高规格HBM3E,向客户提供样品进行性能验证

SK海力士21日宣布,公司成功开发出面向AI的超高性能DRAM新产品HBM3E1,并开始向客户提供样品进行性能验证。

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺

TechInsights发现了四种EUV光刻(EUVL)工艺,用于阵列有源切割/外围有源(有源修剪)、位线接触(BLC)、存储节点接触垫(SNLP)/外围第一金属层 (M1)和存储节点(SN)管图形化