3D DRAM时代即将到来,泛林集团这样构想3D DRAM的未来架构 judy / 周四, 3 八月 2023 - 14:39 动态随机存取存储器 (DRAM) 是一种集成电路,目前广泛应用于需要低成本和高容量内存的数字电子设备 阅读更多 关于 3D DRAM时代即将到来,泛林集团这样构想3D DRAM的未来架构登录或注册以发表评论
泛林集团推出全球首个晶圆边缘沉积解决方案以提高芯片良率 judy / 周四, 29 六月 2023 - 10:08 泛林集团推出了Coronus DX产品,这是业界首个晶圆边缘沉积解决方案,旨在更好地应对下一代逻辑、3D NAND和先进封装应用中的关键制造挑战 阅读更多 关于 泛林集团推出全球首个晶圆边缘沉积解决方案以提高芯片良率登录或注册以发表评论
线边缘粗糙度(LER)如何影响先进节点上半导体的性能? judy / 周一, 12 六月 2023 - 10:38 由后段制程(BEOL)金属线寄生电阻电容(RC)造成的延迟已成为限制先进节点芯片性能的主要因素 阅读更多 关于 线边缘粗糙度(LER)如何影响先进节点上半导体的性能?登录或注册以发表评论
3D时代值得关注的趋势 judy / 周四, 1 六月 2023 - 15:29 随着电子设备精密化,人们愈发要求半导体技术能以更低的成本实现更优的性能和更大的容量。这些趋势推动了半导体技术的重大进步,在过去十年中2D NAND逐渐过渡到3D NAND。 阅读更多 关于 3D时代值得关注的趋势登录或注册以发表评论
元宇宙的实现需要哪些MEMS技术 judy / 周二, 16 五月 2023 - 17:22 元宇宙是Meta®的愿景,即与真实的物理世界连接的虚拟世界互连网络。虽然大家都在热议元宇宙,但多数人对元宇宙的功能和实现方式仍处于雾里看花的阶段 阅读更多 关于 元宇宙的实现需要哪些MEMS技术登录或注册以发表评论
使用虚拟实验设计加速半导体工艺发展 judy / 周四, 13 四月 2023 - 15:47 本文将说明我们在高深宽比通孔钨填充工艺中,利用虚拟DOE实现了对空隙的有效控制和消除。 阅读更多 关于 使用虚拟实验设计加速半导体工艺发展登录或注册以发表评论
引入空气间隙以减少前道工序中的寄生电容 judy / 周五, 24 三月 2023 - 10:18 本文中,我们将专注于前道工序 (FEOL),并演示在栅极和源极/漏极之间引入空气间隙的SEMulator3D®模型 阅读更多 关于 引入空气间隙以减少前道工序中的寄生电容登录或注册以发表评论
使用虚拟实验设计预测先进FinFET技术的工艺窗口和器件性能 judy / 周二, 10 一月 2023 - 11:16 作者:Coventor(泛林集团旗下公司)半导体工艺与整合 (SPI) 高级工程师王青鹏博士原文链接: 阅读更多 关于 使用虚拟实验设计预测先进FinFET技术的工艺窗口和器件性能登录或注册以发表评论