GaN的带隙为3.4eV,是Si的3倍多。宽禁带特性使GaN器件可以在与Si器件相同的电阻下,表现出更高的耐压
摩尔定律已逼近物理极限。“卷不过”就换赛道,宽禁带半导体成为后摩尔时代半导体发展的“蹊径”之一