从一层压电薄膜到10亿颗出货:解码诺思FBAR滤波器芯片的300道工序

滤波芯片洁净室多工序产线

图1:滤波芯片洁净室多工序产线(场景示意)

三百道工序,不是一个用来形容规模的数字。它是三百个必须同时成立的条件:某一道工序的控制不到位,芯片未必立刻失效,但可能在某个频段、某个温度、某个批次里悄悄失效。客户在物料清单上看到的是一颗器件,我们在产线上看到的,是一条从材料到可靠性的工程链。

三百道工序,究竟在"加工"什么

射频滤波器要让指定频段的信号通过,同时衰减频段之外的信号。在FBAR,也就是薄膜体声波谐振器中,电极施加的交变电场会激发压电薄膜沿厚度方向振动。单个谐振器在特定频率附近响应最强,多个谐振频率略有差别的谐振器通过电路连接,共同形成滤波器的通带和带外抑制。

制造的任务,是把这种设计落实到一片片晶圆上。薄膜的厚度影响器件在哪个频率振动,结构的尺寸与边界影响声能能否留在有效振动区域,封装与互连又会影响器件装到电路板上的射频表现。客户在规格书上看到的一条曲线,要靠这些环节共同实现。

一条高端滤波芯片生产线可涉及50多种精密设备、300多道工艺步骤。"三百道"体现的是产线工艺的量级,具体流程随器件结构、封装形式和产品要求而变化。从一片硅晶圆到一颗可交付的滤波芯片,工程过程可以沿着四个环节展开:薄膜沉积决定谐振的起点,图形与结构约束振动,修调与封装使成品性能收敛,测试与可靠性验证检验这些结果能否持续复现。

薄膜沉积:频率从这里开始定型

压电薄膜夹在上下电极之间,构成谐振器的核心声学结构。各层的厚度和材料特性共同影响谐振频率。压电薄膜的晶体取向影响电能与声能转换的效率,电极电阻和声能泄漏则会影响器件的品质因数。这些因素关系到滤波器能做多宽、通带内会损失多少信号。

以一类工作在约2GHz的FBAR器件为例,厚度模式下谐振频率与声学叠层厚度近似成反比,叠层厚度变化约0.5%,谐振频率就可能变化约10MHz。

两片晶圆的平均膜厚可以几乎相同,分布却大不一样。第一片从中心到边缘变化很小,第二片的膜厚却沿半径逐渐变化。把不同位置的谐振频率标到晶圆图上,第二片的边缘器件就可能朝同一方向偏移,留给后续修调的余量也随之改变。因此,工程师要同时看一片晶圆上的位置分布、同批晶圆之间的差异,以及不同批次之间的趋势。这些记录能帮助工程师区分局部异常与持续漂移,并在偏差影响更多批次前查找原因。

平均膜厚接近、分布不同的两片晶圆频率对比

图2:平均膜厚接近、分布不同的两片晶圆频率对比(示意)

图形与结构:把声学"关"在该在的地方

薄膜沉积为谐振频率打下基础。接下来,光刻和刻蚀要把设计图上的尺寸与边界做进晶圆,让声能尽可能留在有效振动区域。以典型空腔型FBAR为例,悬置薄膜下方的空气腔有助于减少声能向衬底泄漏。沿着薄膜平面向四周传播的振动,则需要通过谐振区的形状和边缘设计来控制。

边缘尺寸偏离设计时,额外的振动可能在射频曲线上留下一个小波峰或凹陷,表现为通带纹波、局部损耗或杂散响应。

结构能否在不同晶圆上稳定复现,还取决于薄膜的残余应力。应力分布失衡,可能使晶圆翘曲,影响后续光刻对焦或键合。局部应力过大,也可能影响悬置薄膜释放后的完整性。设计端要给尺寸和应力波动留出余量,制造端则要把实测的尺寸、形貌和射频结果反馈给研发。量产真正考验的是,在正常的工艺波动范围内,器件能否同时守住频率、插入损耗和带外抑制要求。

空气腔型FBAR的俯视图与A-A剖面

图3:空气腔型FBAR的俯视图与A–A剖面

结构成形后,晶圆级射频量测会显示频率偏差。哪些偏差可以通过修调收敛,哪些需要追溯到薄膜或结构,就从这张频率分布图开始判断。

晶圆级射频量测与边缘频偏追溯

图4:晶圆级射频量测与边缘频偏追溯(示意)

频率修调与封装:把偏差收进规格,再验证成品

频率修调以晶圆量测结果为依据,在允许的工艺范围内调整特定层的厚度或质量负载,让频率分布向目标区间收敛。修调后,还要复核通带和带外性能。如果连续几个批次都需要加大修调量,或者补偿总是集中在晶圆边缘,工程师就要回查前道工序,确认膜厚、刻蚀或量测条件是否发生了变化。修调数据也由此成为观察前道工序的依据。

晶圆自动上料与光学检测工位

图5:晶圆自动上料与光学检测工位

封装保护谐振结构,同时改变芯片所处的电气和机械环境。互连与接地路径引入的寄生电感和电容,可能影响频率响应和损耗。封装材料带来的应力,也需要纳入验证。晶圆上测得合格的器件,完成封装后还要按成品规格复核,因为客户在电路板上使用的是带着封装和互连的完整器件。

测试与可靠性:三百道工序,关键处都要被验证

良率在一道道工序中形成。薄膜沉积有膜厚和应力的控制要求,光刻与刻蚀有关键尺寸和形貌的量测要求,封装后有成品射频性能的判定标准。量测结果与晶圆位置、生产批次和工艺记录关联起来,偏差才有可能被追溯。即使一个批次仍在规格范围内,如果频率分布连续几个批次向同一侧移动,也值得在超出规格之前查明原因。

回到那张边缘频率偏移的晶圆图。如果偏移在封装前就已出现,工程师可以先核对量测条件,再把频率分布与膜厚、刻蚀和设备记录对照。如果偏移只在封装后出现,排查范围就要转向封装互连、应力和测试条件。找到可疑因素后,还要用对照批次检验调整效果,确认频率回到目标范围,同时守住插损和带外抑制。一颗异常芯片的价值,在于帮助我们查清原因,并用下一批产品验证改进。

过程量测判断制造是否稳定,成品测试判断器件是否符合规格,可靠性验证则考察器件在规定应力条件下能否保持性能。温度循环、湿热、工作寿命等试验,要根据具体型号和应用要求选择。以诺思车载Wi-Fi滤波器RSQP8889E为例,该型号通过了AEC-Q200 Grade 1可靠性验证。诺思自2023年起建立并持续运行IATF16949:2016汽车行业质量管理体系。一个落实到具体器件及其试验条件,一个落实到研发、制造和质量管理的日常运行。

四个制造与验证环节流程图

图6:四个制造与验证环节流程图

从样品到规模交付:把产线数据用回研发

从天津大学校内4英寸研发线的探索,到诺思6英寸专用量产线的建设,制造能力是在一批批产品中建立起来的。截至2019年5月,诺思已向客户交付超过1亿颗FBAR芯片。到2024年,诺思芯片累计出货量超过10亿颗。交付规模扩大之后,原料批次、设备状态和工艺条件的微小变化,都需要有对应的量测方法和记录,才能及时发现、准确追溯。

这也是诺思选择IDM模式的工程意义。设计研发与晶圆制造直接相连,生产中反复出现的偏差就能回到设计端。如果某个结构对刻蚀尺寸过于敏感,研发可以调整结构或公差,制造再用跨晶圆、跨批次的数据,检验频率、插损和带外抑制能否同时保持在规格内。一次改进经过量产验证,得到的经验就可以用到下一代产品上。

晶圆探针台与射频响应量测

图7:晶圆探针台与射频响应量测

结语:把简单留给客户,把复杂留给自己

三百道工序,本质上是三百个确定性。客户采购一颗芯片,买的是它在产品生命周期里稳定工作的把握。在规定的频段、温度、功率和寿命条件下,器件能够按预期工作,性能变化控制在规格允许的范围内。客户今天完成的选型、设计和验证,到了下一批产品交付时,仍然有据可依。

我们选择把复杂度留在产线,把确定性交付给客户。

这是一颗滤波器芯片走完三百道工序的意义。自2009年在天津大学开展相关研发算起,诺思团队已在这条路上走过十七年,正迈向二十年。我们始终专注于同一件事,让每一项技术进步都能在产线上复现,最终成为客户可以持续使用的产品。

文章来源:诺思微系统

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