在设计高性能超声前端芯片时,工程师们长期面临一个经典难题:如何在单颗芯片上,同时集成高压发射电路和超灵敏的低噪声接收通路?
而110 nm BCD-on-SOI 工艺完美破解行业痛点,带来更高集成度、更小芯片尺寸和更智能的超声系统设计思路。
Image
四大核心优势
专为下一代超声探头打造的紧凑尺寸
– 标准单元密度达到180 nm 工艺的2倍,可集成更多数字处理电路
– 更小线宽,缩小隔离间距,使芯片面积大幅缩减
– 轻松实现紧凑、高通道数的 IC 方案,完美适配便携式超声和 ICE(心腔内超声)系统
真正的 SOI 隔离技术(DTI)
– 彻底杜绝闩锁效应,抑制衬底耦合噪声
– 发射/接收通路稳健集成,串扰极低
高集成度混合信号平台
– 单芯片集成高压驱动器、低噪声模拟前端和高密度数字逻辑
– 简化系统架构,降低 BOM 成本
优化高压与信号性能
– 高压脉冲器效率更高,器件性能全面提升
– 接收通路具备出色信号完整性,满足高动态范围需求
借助110 nm BCD-on-SOI 工艺,IC 设计人员可打造发射接收一体化与数字波束成形 SoC,芯片尺寸却大幅缩减。这将加速小型化、高性能医疗超声系统落地普及。
想要深入了解 X-FAB 的110 nm BCD-on-SOI 解决方案,点击查看:https://www.xfab.com/xt011