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110 nm BCD-on-SOI工艺,解锁下一代医疗超声收发芯片全新方案

在设计高性能超声前端芯片时,工程师们长期面临一个经典难题:如何在单颗芯片上,同时集成高压发射电路和超灵敏的低噪声接收通路?

而110 nm BCD-on-SOI 工艺完美破解行业痛点,带来更高集成度、更小芯片尺寸和更智能的超声系统设计思路。

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110 nm BCD-on-SOI工艺

四大核心优势

专为下一代超声探头打造的紧凑尺寸

– 标准单元密度达到180 nm 工艺的2倍,可集成更多数字处理电路

– 更小线宽,缩小隔离间距,使芯片面积大幅缩减

– 轻松实现紧凑、高通道数的 IC 方案,完美适配便携式超声和 ICE(心腔内超声)系统

真正的 SOI 隔离技术(DTI)

– 彻底杜绝闩锁效应,抑制衬底耦合噪声

– 发射/接收通路稳健集成,串扰极低

高集成度混合信号平台

– 单芯片集成高压驱动器、低噪声模拟前端和高密度数字逻辑

– 简化系统架构,降低 BOM 成本

优化高压与信号性能

– 高压脉冲器效率更高,器件性能全面提升

– 接收通路具备出色信号完整性,满足高动态范围需求

借助110 nm BCD-on-SOI 工艺,IC 设计人员可打造发射接收一体化与数字波束成形 SoC,芯片尺寸却大幅缩减。这将加速小型化、高性能医疗超声系统落地普及。

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